・干渉計：平面/円筒/曲率測定（CX≦700，CC≦1000）

–RMS単純反復性<0.06 nm、λ/10,000(2σ)

–RMS波面繰返し性<0.35 nm、λ/1,800(メン+2σ)

–ピーク画素偏差<0.5 nm、λ/1,200(99.5%)

–瞳の集束範囲4インチ

・三次元測定装置：平行度/平面図/垂直度/円度の測定

–分解能（um）：標準0.5、高精度0.1

–最大許容：標準3.5+L/300、3.5、高精度3.0+L/300、3.0

・Prism Master：角度測定

–光電自コリメーション：EFL 300 mm、直径57 mm

–光電自コリメーションの精度：分解能0.01；繰返し性±0.1

・表面粗さ測定：表面粗さ測定（Ra）

–10 x，50 x，100 x測定可能

–垂直走査範囲

–150 um、拡張スキャン範囲は20 mmまでです。

–垂直解像度<0.1 mm

–横解像度0.36から9.50 um

–RMS反復性<0.01 nm

・分光計：透過率/反射率(絶対反射)/吸光度の測定

–波長範囲190〜2800 nm/250〜250 nm（自動偏光子を使用）

–透過率0～85度

–反射率5～85度

–測定誤差（10回繰り返し）測定値)<0.1%

・Mahr LD 260：平面/非球面/円柱/形状と粗さの

–測定–プローブ測定範囲

（1）13 mm（100 mmプローブアーム）

（2）26 mm（200 mmプローブアーム）

–ドライバX軸不確定度：±0.2*L.1000)um

–測定時間：5〜10分

–測定範囲/分解能(Z軸)13 mm/0.8 nm

–測定範囲/分解能(X軸)0.1-220 mm/0.8 nm

–最小測定距離（X軸）0.05-30 um

–位置決め精度：0.1 um

・ASI：平面/非球面/曲率（CX 550/CX 700）の測定

–繰り返し≦10 nm（λ/60）rms

–再現性≦20 nm（λ/30）rms

–精度≦30 nm(λ/20)rms

–測定可能径≦300 mm