レーザー(Laser)
エキシマレーザー
-高電力XeClコンポーネントです。
-高精度平板と球形。
-PVλ/10〜λ/30,Ra<0.3 nm−
-範囲：193,248,308 nm
-平行度:
-大サイズコンポーネント（200〜1800 mL）
-製品：大円柱レンズ、大きな焼き鈍し窓など
ND;YAGレーザー
-高出力ND;YAGレーザーコンポーネント。
-高精度平板と球形。
-PVλ/10〜、λ/20 Ra＜0.3 nm
-範囲：266,532,355,1064 nm
-平行度: <5”
-製品：レーザー立方B/S，B/S，ミラー，出力カプラ，ミラーなど
二酸化炭素レーザー
-高出力CO 2レーザコンポーネントです。
-高精度平板と球形。
-PVλ/4〜、λ/10 Ra＜0.5 nm
-範囲：9.4,10.6 um−
-平行度:<5''
-製品：フォーカスレンズ、ミラー、B/S出力カプラなど
それは、最も厳しいUV用途に適した技術を有し、エネルギーエキシマレーザ製品は、高出力で使用するために最適化される。それは、優れた熱安定性と低いUV級溶融シリカを使用している波面歪みを提供します。ユーザーが所望のように、入射角と仕様のサイズを備えている。
- 低損失誘電体コーティング
- 193,248,308nm レーザー用に設計
| 描述 | 技术指标 |
|---|---|
| 直径公差(mm) | +0.0/-0.1mm |
| 通光孔径（%) | >90% |
| 厚公差(mm) | ±0mm |
| 表面精度(入) | M/10 @632.8nm |
| 表面质量 | 10-5 |
| 平行性 | <1arc sec |
| 入射角 | 0~45° |
| 设计波长DWL (nm) | 193nm，248nm，308nm |
| 涂层 | エキシマレーザー |
Nd；YAGレーザの使用に必要な高い反射率、優れた表面品質及び精度を提供する。yagレーザ応用プログラムは高い損傷しきい値を特徴とし，この高出力レーザミラーはビームステアリングに理想的である。デュアルバンドとシングルバンドもご利用いただけます。
- 99 %以上の高い反射率設計。
- 紫外線、可視光、近赤外レーザー応用に使います。
| 描述 | 技术指标 |
|---|---|
| 直径公差(mm) | ＋0.0/-0.1mm |
| 通光孔径（%) | >90% |
| 厚公差(mm) | ±0.2mm |
| 表面精度(入) | λ/10 @632.8nm |
| 表面质量 | 10-5 |
| 平行性 | <1 arc sec |
| 入射角 | 0~45° |
| 设计波长DWL (nm) | 266nm，351nm，532nm，1064nm |
| 涂层 | Nd：YAGレーザミラー |
それは、例えばCO 2とIRレーザを組み合わせて使用する赤外レーザであり、最も厳しい応用の理想的な選択である。レーザ損傷閾値を増加させるための広帯域IRレーザであり，高出力赤外レーザによって生成された過剰熱量を銅基板を用いて散逸する。銅鏡では多すぎる熱量を適切に放出するので，他の基板と比較して良好な機械的安定性を持つ。
- 98%以上の高反射率設計
- CO 2レーザに使用する範囲は9.3〜10.6 umです。
| 描述 | 技术指标 |
|---|---|
| 直径公差(mm) | +0.0/-0.1mm |
| 通光孔径（%) | >90% |
| 厚公差(mm) | ±0.2mm |
| 表面精度(入) | λ/20 @10.6nm |
| 表面质量 | 10-5 |
| 平行性 | <1 arc sec |
| 入射角 | 0~45° |
| 设计波长DWL (nm) | 9.4um，10.6um |
| 涂层 | 二酸化炭素レーザー |
接着剤を用いずに2つの直角プリズムを結合して作製したキュービックスペクトロスコピーは様々な反射／透過比を提供することができる。各ビームスプリッタはプリズム上で誘電コーティングを行うことによって高効率を実現するための理想的な選択である。
- 分裂高出力エキシマレーザに適しています。
- 各種類のビーム比が使用できます。
- いくつかのサイズがあります。選択できます。
| 描述 | 技术指标 |
|---|---|
| 直径公差(mm) | ± 0.1mm |
| 通光孔径（%) | >90% |
| 厚公差(mm) | ±0mm |
| 表面精度(入) | λ/8 @ 632.8nm |
| 表面质量 | 20-10 |
| 平行性 | <1弧秒 |
| 入射角 | <1 arc sec |
| 设计波长DWL (nm) | 193nm，248nm，308nm |
| 涂层 | エキシマレーザー |
接着剤を用いずに2つの直角プリズムを結合して作製したキュービックスペクトロスコピーは様々な反射／透過比を提供することができる。それはゴーストを除去し，様々なレーザの透過と反射率を制御できるので，レーザ応用業界で多くの分野に利用できる。
- レーザーとイメージング処理に適用する
- ゴーストと依存ビームを制御する役割があります。
- いくつかのサイズを選択できます。
| 描述 | 技术指标 |
|---|---|
| 直径公差(mm) | ± 0.1mm |
| 通光孔径（%) | >90% |
| 厚公差(mm) | ±0mm |
| 表面精度(入) | λ/6 @ 632.8nm |
| 表面质量 | 20-10 |
| 平行性 | ±1 arc min |
| 入射角 | 45° |
| 设计波长DWL (nm) | 266nm, 355nm, 532nm, 1604nm |
| 涂层 | Nd;YAGレーザー |
高エネルギー偏光立方ビームスプリッタはランダム偏光を二つの直交直線偏光ビームに分離した。各ビームスプリッタは，透過の波面歪みを最大程度に低減するために，一対の精密プリズムを互いに精密に結合し，優れた平行度入射ビームを提供する。
- S偏光：反射、P偏光：透過
- 分岐比は100:1ですので、消光比が高いです。
- いくつかのサイズを選択できます。
| 描述 | 技术指标 |
|---|---|
| 直径公差(mm) | ＋0.0/-0.2mm |
| 通光孔径（%) | >90% |
| 厚公差(mm) | ＋0.0/-0.2mm |
| 表面精度(入) | λ/10 @ 632.8nm |
| 表面质量 | 20-10 |
| 平行性 | ±1 arc min |
| 入射角 | 0 |
| 设计波长DWL (nm) | 355nm, 532nm, 1604nm |
| 涂层 | エキシマレーザー |
これは大出力エキシマレーザの保護ウィンドウであり、コーティングの均一性を最大限に低減することにより、大きな光学面のP−Vと粗さを最大程度低減し、レーザの効率と機能を向上させることができるので、様々な大型レーザ業界に適しています。
- 大出力エキシマに適用可能な大型レーザーミラー
- 各種サイズの作成が可能です。
- 193,248,308 nmレーザ用に設計
| 描述 | 技术指标 |
|---|---|
| 直径公差(mm) | ±0.5mm |
| 通光孔径（%) | >90% |
| 厚公差(mm) | ±0.1mm |
| 表面精度(入) | λ/2 @ 632.8nm |
| 表面质量 | 10-5 |
| 平行性 | 1arc sec |
| 入射角 | 0~45° |
| 设计波长DWL (nm) | 308nm |
| 涂层 | エキシマレーザー |
これは大出力エキシマレーザの保護ウィンドウであり、コーティングの均一性を最大限に低減することにより、大きな光学面のP−Vと粗さを最大程度低減し、レーザの効率と機能を向上させることができるので、様々な大型レーザ業界に適しています。
- 大出力エキシマに適用可能な大型レーザーミラー
- 各種サイズの作成が可能です。
- 193,248,308 nmレーザ用に設計
| 描述 | 技术指标 |
|---|---|
| 直径公差(mm) | ±0.1mm |
| 通光孔径（%) | >90% |
| 厚公差(mm) | ±0.05mm |
| 表面精度(入) | λ/10 @ 632.8nm |
| 表面质量 | 10-5 |
| 平行性 | 1arc sec |
| 入射角 | 0~45° |
| 设计波长DWL (nm) | 193nm，248nm，308nm |
| 涂层 | エキシマレーザ |
λ/（10〜20）高出力レーザウィンドウは高効率で高損傷閾値のV型コーティングであり、設計波長における透過率を最大化することができる。
コーティングは優れた熱性能を持ち、波面歪みが少ないので、精密レーザーを使用するのに適しています。
- 266 nm，355 nm，532 nmおよび1064 nmに使用できます。
- 低自発蛍光
- 高損傷閾値
| 描述 | 技术指标 |
|---|---|
| 直径公差(mm) | +0.00/-0.10mm |
| 通光孔径（%) | >90% |
| 厚公差(mm) | ±0.10mm |
| 表面精度(入) | λ/10 ~ λ/20 @ 632.8nm |
| 表面质量 | 10-5 |
| 平行性 | 1arc sec |
| 入射角 | 0~45° |
| 设计波长DWL (nm) | 266nm, 355nm, 532nm, 1064nm |
| 涂层 | Nd;Yagレーザー |